协议 注意:这些程序主要是为方便Wanunu实验室成员,和信息可能不完整。使用你的自由裁量权和遵守所有的安全条例。不犹豫地接触Wanunu博士任何你发现的完整描述不清楚! 标准作业程式 原子层沉积(ALD, Arradiance骏升) 缓冲氧化腐蚀 DNA使用CFX96融化曲线 电子束光刻技术(@ EM设施,NEU) 椭圆光度法(鲁道夫研究AutoEL II) 测量接触角(自制设备) 减少氮气泄漏 反应离子刻蚀和氧等离子体清洁(工艺micro-RIE 800)PAGE电泳 PAGE电泳 穷人弹性垫圈(单分子实验) 毛孔清洁协议 晶圆(使用alignment-free光刻) 化学物质 3-Aminopropyl-phosphonic酸 丙酮 硼酸 缓冲溶液pH4 缓冲溶液pH7 缓冲溶液pH10 氯仿 乙二胺四乙酸 氢氟酸 过氧化氢 六水合氯化镁 Octanediphosphonic酸 苯酚 膦酸 磷酸 甲基丙烯酸 氯化钾(氯化钾) 氢氧化钾 试剂醇 硅橡胶薄 无水乙酸钠 氢氧化钠 硫酸 TDMAHf TDMA-Zr tem 氢氧化Tetramethylammonium五水化物 三乙胺三(羟甲基) UltraSpec琼脂糖 尿素